1 |
A. E. Morgan, E. K. Broadbent, K. N. Ritz, D. K. Sadana and B. J. Burow, J. Appl. Phys., 64, 344 (1988)
DOI
|
2 |
J. Lutze, G. Scott and M. Manley, IEEE Electron Device Lett., 21(4), 155 (2000)
DOI
ScienceOn
|
3 |
H. Fang, M. C. Oztu, E. G. Seebauer and D. E. Batchelor, J. Electrochem. Soc., 146(11), 4240 (1999)
DOI
|
4 |
Y. S. Ahn and O. S. Song, J. Mater. Res., 11, 71 (2001)
|
5 |
R.T.Tung, MRS Symp. Proc., 427, 481 (1996)
|
6 |
Y. P. Chen, G. A. Dixit, J. P. Lu, W. Y. Hsu, A. J. Konecni, J. D. Luttmer and R. H. Havemann, Thin Solid Films, 320, 73 (1998)
DOI
ScienceOn
|
7 |
J. Y. Dai, Z. R. Guo, S. F. Tee, C. L. Tay, E. Er and S .Redkar, Appl. Phys. Lett., 78, 3091 (2001)
DOI
ScienceOn
|
8 |
D. K. Sohn, J. S. Park, B. H. Lee, J. U. Bae, J. S. Byun and J. J. Kim, Appl. Phys. Lett., 73, 2302 (1998)
DOI
ScienceOn
|
9 |
M. L. A. Dass, D. B. Fraser and C. S. Wei, Appl. Phys. Lett., 58, 1308 (1991)
DOI
|
10 |
J. Prokop, C. E. Zybill and S. Veprek, Thin Solid Films, 359, 39 (2000)
DOI
ScienceOn
|
11 |
C. Y. Ting, M. Wittmer, S. S. Iyer and S. B. Brodsky, J. Electrochem. Soc., 131, 2934 (1984)
DOI
|
12 |
C. Detavernier, R. L. Van Meirhaeghe and F. Cardon, J. Appl. Phys., 88, 133 (2000)
DOI
ScienceOn
|
13 |
C. M. Osburn, J. Y. Tsai and J. Sun, J. Electron Material, 25, 1725 (1996)
DOI
|
14 |
D. P. Adams, S. M. Yalisove and D. J. Eaglesham, J. Appl. Phys., 76, 5190 (1994)
DOI
ScienceOn
|
15 |
J. A. Kittl and Q. Z. Hong, Thin Solid Films, 320, 110 (1998)
DOI
ScienceOn
|
16 |
G. J. P.Krooshof, F. H. P. M. Habraken, W. F. van der Weg, L. Van den Hovw, K. Maex and R. F. De Keersmaecker, J. Appl. Phys., 63, 5110 (1988)
DOI
|
17 |
D. Mangelinck, J. Cardenas, F. M. d'Heurle, B. G. Svensson and P. Gas, J. Appl. Phys., 86, 4908 (1999)
DOI
|
18 |
G. B. Kim and H. K. Baik, Appl. Phys. Lett., 69, 3498 (1996)
DOI
ScienceOn
|
19 |
T. S. Kang and J. H. Je, Appl. Phys. Lett., 80, 1361 (2002)
DOI
ScienceOn
|
20 |
H. Zhang, J. Poole, R. Eller and M. Keefe, J. Vac. Sci. Technol., A17, 1904 (1999)
DOI
|
21 |
T. S. Kang, J. H. Je, G. B. Kim, H. K. Baik and S. Lee, J. Vac. Sci. Technol., B18, 1953 (2000)
DOI
ScienceOn
|
22 |
A. Lauwers, Q. F. Wang, B. Deweerdt and K. Maex, Applied Surface Science, 91, 12 (1995)
DOI
ScienceOn
|
23 |
R. T. Tung, Applied Surface Science, 117/118, 268 (1997)
DOI
ScienceOn
|
24 |
J. Chen, J. P. Colinge, D. Flandre, R. Gillon, J. P. Raskin and D. Vanhoenacker, J. Electrochem. Soc., 144(7), 2437 (1997)
DOI
|