Glass Transition Temperature and Isothermal Physical Aging of PMMA Thin Films Incorporated with POSS

Thin (~650 nm) and ultrathin (~50 nm) films of neat PMMA and PMMA containing 5 wt% of methacryl-polyhedral oligomeric silsesquioxane were prepared in this work. The effects of film thickness and POSS on glass transition temperature ($T_g$) and isothermal physical aging were investigated by means of differential scanning calorimetry (DSC). $T_g$ depression was observed as film thickness was decreased and Ma-POSS molecules were incorporated. Enthalpy relaxation (${\Delta}H_{Relax}$) due to the isothermal physical aging was reduced by ultra-thin film thickness and the addition of Ma-POSS. KWW (Kohlrausch-Williams-Watts) equation was used to fit ${\Delta}H_{Relax}$ vs. aging time data providing the fitting parameters; maximum enthalpy recovery (${\Delta}H_{\infty}$), relaxation time (${\tau}$) and non-exponentiality parameter (${\beta}$).

POSS를 함유한 PMMA 박막의 유리전이온도 및 등온 물리적 시효

순수 PMMA와 methacryl-polyhedral oligomeric silsesquioxane(Ma-POSS)를 5 wt% 첨가한 PMMA를 박막(~650 nm)과 초박막(~50 nm)으로 제조하였으며, 유리전이온도($T_g$)와 등온 물리적 시효에 미치는 박막의 두께에 미치는 POSS의 첨가 효과를 시차주사열량계(DSC)를 이용하여 조사하였다. 초박막화와 Ma-POSS의 첨가로 인해 $T_g$ 감소가 관찰되었다. 또한 등온 물리적 시효에 의한 엔탈피 완화값(${\Delta}H_{Relax}$)도 초박막화 Ma-POSS를 첨가하였을 때 감소하였다. 시효시간에 따른 ${\Delta}H_{Relax}$ 데이터에 KWW(Kohlrausch-Williams-Watts)식을 적용하여 최대 엔탈피(${\Delta}H_{\infty}$), 이완시간(${\tau}$) 그리고 이완시간의 분포상수(${\beta}$)를 결정하였으며 이를 비교 분석하였다.