1 |
H. W. Lee, G. Y. Park, Y. S. Seo, Y. H. Im, S. B. Shim, and H. J. Lee, J. Phys. D: Appl. Phys. 44, 053001 (2011).
DOI
|
2 |
B. Eliasson, M. Hirth, and U. Kogelschatz, J. Phys. D: Appl. Phys. 20, 1421 (1987).
DOI
|
3 |
J. G. Eden and S. J. Park, Plasma Phys. Control. Fusion 47, B83 (2005).
DOI
|
4 |
D. S. Lee, K. Tachibana, H. J. Yoon, and H. J. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 48, 056003 (2009).
DOI
|
5 |
J. Pons, E. Moreau, and G. Touchard, J. Phys. D: Appl. Phys. 38, 3635 (2005).
DOI
|
6 |
M. J. Pavlovich, H.-W. Chang, Y. Sakiyama, D. S. Clark, and D. B. Graves, J. Phys. D: Appl. Phys. 46, 145202 (2013).
DOI
|
7 |
C. K. Birdsall and A. B. Langdon, Plasma Physics via Computer Simulations (Adam Hilger, Bristol, 1991).
|
8 |
J. P. Verboncoeur, Plasma Phys. Controlled Fusion 47, A231 (2005).
DOI
|
9 |
V. Vahedi and M. Surendra, Comput. Phys. Commun. 87, 179 (1995).
DOI
|
10 |
H. W. Bae, H.-J. Lee, and H. J. Lee, Appl. Sci. Converg. Technol. 25, 6 (2016).
|
11 |
S. B. Shim, I. C. Song, H.-J. Lee, and H. J. Lee, J. Appl. Phys. 110, 023301 (2011).
DOI
|
12 |
J. Y. Lee, H. W. Bae, H. J. Lee, and J. P. Verboncoeur, Plasma Sources Sci. Technol. 23, 035017 (2014).
DOI
|