1 |
N. Setter, L. E. Cross, J. Appl. Phys., 51, 4356 (1980).
DOI
ScienceOn
|
2 |
J. L. Tang, M. K. Zhu, Y. D. Hou, H. Wang, H. Yan, J. Cryst. Growth., 307, 70 (2007).
DOI
ScienceOn
|
3 |
F. Chu, I. M. Reaney, N. Setter, J. Appl. Phys., 77, 1671 (1995).
DOI
ScienceOn
|
4 |
A. A. Bokov, Z. G. Ye, J. of Advanced Dielectrics, 2(2), 1241010 (2012).
DOI
|
5 |
C. Zhao, C. Z. Zhao, M. Werner, S. Taylor, P. Chalker, 8, 456 (2013).
DOI
ScienceOn
|
6 |
I. M. Reaney, J. Petzelt, V. V. Voitsekhovskii, F. Chu, N. Setter, J. Appl. Phys., 76, 2086 (1994).
DOI
ScienceOn
|
7 |
T. T. Huy, N. D. T. Luan, T. V. Chuong, L. V. Hong, Communications in Phys., 22, 229 (2013).
|
8 |
J. M. Kiat, C. Bogicevic, F. Karolak, G. Dezanneau, N. Guiblin, W. Ren, L. Bellaiche, R. Haumont, Phys. Rev. B, 81, 144122 (2010).
DOI
ScienceOn
|
9 |
A.M. Welsch, B. Mihailova, M. Gospodinov, R. Stosch, B. Guttler and U. Bismayer, J. Phys.: Condens. Matter., 21, 235901 (2009).
DOI
|