1 |
K. W. Kim, Y. W. Song, S. P. Chang, I. H. Kim, S. S. Kim, and S. Y. Lee, Thin Solid Films, 518, 1190 (2009). [DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2009.03.229].
DOI
ScienceOn
|
2 |
Y. W. Song, K. W. Kim, J. P. Ahn, G. E. Jang, and S. Y. Lee, Nanotechnology, 20, 275606 (2009). [DOI: http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/20/27/275606].
DOI
ScienceOn
|
3 |
M. W. Ahn, K. S. Park, J. H. Heo, J. G. Park, D. W. Kim, K. J. Choi, J. H. Lee, and S. H. Hong, Appl. Phys. Lett., 93, 263103 (2008). [DOI: http://dx.doi.org/10.1063/1.3046726].
DOI
ScienceOn
|
4 |
A. Laskin and J. P. Cowin, Anal. Chem., 73, 1023 (2001). [DOI: http://dx.doi.org/10.1021/ac0009604].
DOI
ScienceOn
|
5 |
G. D. Yuan, W. J. Zhang, J. S. Jie, X. Fan, J. A. Zapien, Y. H. Leung, L. B. Luo, P. F. Wang, C. S. Lee, and S. T. Lee, Nano Lett., 8, 2591 (2008). [DOI: http://dx.doi.org/10.1021/nl073022t].
DOI
ScienceOn
|
6 |
C. X. Xu, X. W. Sun, and B. J. Chen, Appl. Phys. Lett., 84, 1540 (2006). [DOI: http://dx.doi.org/10.1063/1.1651328].
DOI
ScienceOn
|
7 |
H. C. Hsu, Y. K. Tseng, H. M. Cheng, J. H. Kuo, and W. F. Hsieh, J. Crystal Growth, 261, 520 (2004). [DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2003.09.040].
DOI
ScienceOn
|
8 |
Y. W. Song and S. Y .Lee, Thin Solid Films, 518, 1323 (2009). [DOI: http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2009.01.191].
DOI
ScienceOn
|
9 |
K. J. Kim and Y. R. Park, Appl. Phys. Lett., 78, 3761 (2001).
|
10 |
L. K. Rao and V. Vinni, Appl. Phys. Lett., 63, 608 (1993). [DOI: http://dx.doi.org/10.1063/1.109665].
DOI
ScienceOn
|
11 |
M. Chen, Z. L. Pei, C. Sun, L. S. Wen, and X. Wang, J. Cryst. Growth, 220, 254 (2000). [DOI: http://dx.doi.org/10.1016/S0022-0248(00)00834-4].
DOI
ScienceOn
|
12 |
P. F. Carcia, R. S. McLean, M. H. Reilly, and G. Nunes Jr, Appl. Phys. Lett., 82, 1117 (2003). [DOI: http://dx.doi.org/10.1063/1.1553997].
DOI
ScienceOn
|
13 |
R. Martins, P. Barquinha, I. Ferreira, L. Pereira, G. Goncalves, and E. Fortunato, J. Appl. Phys., 101, 044505 (2007). [DOI: http://dx.doi.org/10.1063/1.2495754].
DOI
ScienceOn
|
14 |
J. Zhong, S. Muthukumar, Y. Chen, Y. Lu, H. M. Ng, W. Jiang, and E. L. Garfunkel, Appl. Phys. Lett., 83, 3401 (2003). [DOI: http://dx.doi.org/10.1063/1.1621729].
DOI
ScienceOn
|