1 |
J. P. Biersack and J. F. Ziegler, “Ion Implantation Techniques”, Springer-Verlag, Berlin, (1982) p. 281.
|
2 |
T. E. Seidel, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 21, 96 (1987).
DOI
ScienceOn
|
3 |
J. P. Biersack, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 35, 205 (1988).
DOI
ScienceOn
|
4 |
M. C. Paek, O. J. Kwon, J. Y. Lee, and H. B. Im, J. Appl. Phys. 70, 4176 (1991).
DOI
|
5 |
C. W. Bates, Jr. , Appl. Phys. Lett. 45, 1058 (1984).
DOI
|
6 |
L. Gong, S. Bogen, L. Frey, W. Jung, and H. Ryssel, Microelectron. Eng. 19, 495 (1992) [DOI: 10.1016/0167-9317(92)90482-7].
DOI
ScienceOn
|
7 |
A. F. Tasch and S. K. Banerjee, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 112, 177 (1996) [DOI: 10.1016/0168-583X(95)01246-X].
DOI
ScienceOn
|
8 |
U. Littmark and J. F. Ziegler, Phys. Rev. 23, (1980) [DOI: 10.1103/PhysRevA.23.64].
|
9 |
L. Frey, S. Bogen, L. Gong, W. Jung, and H. Ryssel, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B 62, 410 (1992) [DOI: 10.1016/0168-583X(92)95267-U].
DOI
ScienceOn
|
10 |
W. C. Jung and K. D. Lee, J. Korean Phys. Soc. 45, 1078 (2004).
|
11 |
R. G. Wilson, J. Appl. Phys. 54, 6879 (1983) [DOI: 10.1063/1.331993].
DOI
ScienceOn
|
12 |
W. S. Yoo, T. Fukada, T. Setokubo, K. Aizawa, and T. Ohsawa, Jpn. J. Appl. Phys. 42, 1123 (2003) [DOI: 10.1143/JJAP. 42.1123].
DOI
|
13 |
A. Dusch, J. Marcon, K. Masmoudi, F. Olivie, M. Benzohra, K. Ketata, and M. Ketata, Mater. Sci. Eng. B 80, 65 (2001) [DOI: 10.1016/S092-5107(00)00590-0].
DOI
ScienceOn
|
14 |
W. C. Jung, J. Korean Phys. Soc. 46, 1218 (2005).
|
15 |
H. Ryssel and I. Ruge, “Ion Implantation”, Wiley, New York, (1986) p. 125.
|
16 |
W. C. Jung, J. KEEME, 15, 289 (2002).
|