1 |
X. Zheng, Y. Wu, R. Sun, W. Zhu, X. Jiang, Z. Zhang, and S. Xu, Thin Solid Films, 478, 252 (2005)
DOI
|
2 |
L. Pasimeni, M. Meneghetti, R. Rella, L. Valli, C. Granito, and L. Troisi, Thin Solid Films, 265, 58 (1995)
DOI
|
3 |
K. Takemoto, Y. Inaki, and R. M. Ottenbrite, Functional Monomers and Polymers, Chap. 6 Electrically Conducting Polymers, Marcel Dekker, INC., New York and Basel, 1987
|
4 |
G. Y. Jung, A. Yates, I. D. W. Samuel, and M. C. Petty, Mater. Sci. Eng. C, C14, 1 (2001)
|
5 |
G. E. Collins, V. S. Williams, L. -K. Chau, K. W. Nebesny, C. England, P. A. Lee, T. Lowe, Q. Fernando, and N. R. Armstrong, Synth. Met., 54, 351 (1993)
DOI
|
6 |
M. I. Boamfa, P. C. M. Christianen, J. C. Maan, H. Engelkamp, and R. J. M. Nolte, Physica B, 294-295, 343 (2001)
|
7 |
F. Armand, H. Perez, S. Fouriaux, O. Araspin, J.-P. Pradeau, C. G. Claessens, E. M. Maya, P. Vazquez, and T. Torres, Synth. Met., 102, 1476 (1999)
DOI
ScienceOn
|
8 |
Y. Qiu, Y. Gao, P. Wei, and L. Wang, Appl. Phys. Lett., 80, 2628 (2002)
DOI
ScienceOn
|
9 |
C. Giebeler, H. Antoniadis, D. D. C. Bradley, and Y. Shirota, J. Appl. Phys., 85, 608 (1999)
DOI
ScienceOn
|
10 |
Z. Bao, A. J. Lovinger, and J. Dodabalapur, Appl. Phys. Lett., 69, 3066 (1996)
DOI
ScienceOn
|
11 |
T. Kato, T. Mori, and T. Mizutani, Thin Solid Films, 393, 109 (2001)
DOI
|
12 |
C. Giebeler, H. Antoniadis, D. D. C. Bradley, and Y. Shirota, Appl. Phys. Lett., 72, 2448 (1998)
DOI
ScienceOn
|
13 |
S. -F. Chen and C. -W. Wang, Appl. Phys. Lett., 85, 765 (2004)
DOI
ScienceOn
|
14 |
S. Lee, C. -H. Chung, and S. M. Cho, Synth. Met., 126, 269 (2002)
DOI
ScienceOn
|
15 |
Y. -L. Lee, Y. -C. Chen, C. -H. Chang, Y. -M. Yang, and J. -R. Maa, Thin Solid Films, 370, 278 (2000)
DOI
|
16 |
K. P. Khrishnakumar and C. S. Menon, Mater. Lett., 48, 64 (2001)
DOI
ScienceOn
|
17 |
B. Bialek, I. G. Kim, and J. I. Lee, Thin Solid Films, 436, 107 (2003)
DOI
ScienceOn
|
18 |
S. Yanagiya, S. Nishikata, G. Sazaki, A. Hoshino, K. Nakajima, and T. Inoue, J. Cryst. Growth, 254, 244 (2003)
DOI
|
19 |
M. Y. Chan, S. L. Lai, F. L. Wong, O. Lengyel, C. S. Lee, and S. T. Lee, Chem. Phys. Lett., 371, 700 (2003)
DOI
|
20 |
P. S. Davids, S. M. Kogan, I. D. Parker, and D. L. Smith, Appl. Phys. Lett., 69, 2270 (1996)
DOI
ScienceOn
|
21 |
M. Pfeiffer, A. Beyer, T. Fritz, and K. Leo, Appl. Phys. Lett., 73, 3202 (1998)
DOI
ScienceOn
|
22 |
X. Zhou, M. Pfeiffer, J. Blochwitz, A. Werner, A. Nollau, T. Fritz, and K. Leo, Appl. Phys. Lett., 78, 410 (2001)
DOI
ScienceOn
|
23 |
J. Blochwitz, M. Pfeiffer, T. Fritz, and K. Leo, Appl. Phys. Lett., 73, 729 (1998)
DOI
ScienceOn
|
24 |
M. M. El-Nahass, Z. El-Gohary, and H. S. Soliman, Opt. Laser Technol., 35, 523 (2003)
DOI
ScienceOn
|
25 |
J. X. Sun, X. L. Zhu, H. J. Peng, M. Wong, and H. S. Kwok, Appl. Phys. Lett., 87, 093504 (2005)
DOI
ScienceOn
|
26 |
X. Zhou, J. He, L. S. Liao, M. Lu, Z. H. Xiong, X. M. Ding, X. Y. Hou, F. G. Tao, C. E. Zhou, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett., 74, 609 (1999)
DOI
ScienceOn
|
27 |
K. Ihm, T. -H. Kang, K. -J. Kim, C. -C. Hwang, Y. -J. Park, K. -B. Lee, B. Kim, C. -H. Jeon, C. -Y. Park, K. Kim, and Y. - H. Tak, Appl. Phys. Lett., 83, 2949 (2003)
DOI
ScienceOn
|
28 |
Z. Ji, Y. Xiang, and Y. Ueda, Prog. Org. Coat., 49, 180 (2004)
|
29 |
V. W. -W. Yam, B. Li, Y. Yang, W. -K Ben, K. M. -C. Wong, and K. -K. Cheung, Eur. J. Inorg. Chem., 22, 4035 (2003)
|