1 |
H. W. Kim, B. S. Ju, B. Y. Nam, W. J. Yoo, C. J. Kang, T. H. Ahn, J. T. Moon, and M. Y. Lee, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2151 (1999)
|
2 |
K. Nishikama, Y. Kusumi, T. Oomori, M. Hanazaki, and K. Namba, Jpn. J. Appl. Phys. 32, 6102 (1993)
|
3 |
S. Saito and K. Kuramasu, Jpn. J. Appl. Phys. 31, 135 (1992)
|
4 |
W. Pan and S. B. Desu, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3208 (1994)
|
5 |
W. J. Yoo, J. H. Hahm, H. W. Kim, C. O. Jung, Y. B. Koh, and M. Y. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 35, 2501 (1995)
|
6 |
T. Aoyama, S. Yamazaki, and K. lmai, J. Electrochem. Soc. 145, 2961 (1998)
|
7 |
H. W. Kim, B. S. Ju, C. J. Kang, and J. T. Moon, Microelectronic Engineering 65, 185 (2003)
|
8 |
S. Yokoyama, Y. Ito, K. Ishihara, K. Hamada, S. Ohnishi, J. Kudo, and K. Sukiyama, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 767 (1995)
|