1 |
J. H. Bae, H. S. Lee, J. H. Park, H. Nishizawa, M. Kinoshita and H. D. Jeong: J. Kor. Inst. Electr. Electron. Mater. Eng., 23 (2010) 358.
DOI
|
2 |
J. W. Kim and K. H. Park, Korea, KR 0049709 (2016).
|
3 |
B. K. Choi and H. T. Jeon: Korean J. Met. Mater., 8 (1998) 837.
|
4 |
S. W. Lee and C. M. Lee: Appl. Sci. Converg. Technol., 10 (2001) 267.
|
5 |
J. M. Lee and S. H. Cho: KSLP, 4 (2001) 22.
|
6 |
T. Hattori: Ultraclean surface processing of silicon wafers: secrets of VLSI manufacturing, T. Hattori (Ed.), Springer Science & Business Media, Berlin (2013) 61.
|
7 |
S. R. Noh and S. S. You: KSDET., 16 (2017) 41.
|
8 |
T. M. Pan, T. F. Lei, T. S. Chao, M. C. Liaw, F. H. Ko and C. P. Lu: J. Electrochem. Soc., 148 (2001) 315.
|
9 |
T. Uchida, K. Iijima, T. Yamazaki, S. Tomaru and F. Maruyama, Japan, JP 7005177 (2006).
|
10 |
A. Abbadie, J. M. Hartmann, P. Besson, D. Rouchon, E. Martinez, P. Holliger, C. D. Nardo, Y. Campidelli and T. Billon: Appl. Surf. Sci., 254 (2008) 6793.
DOI
|
11 |
W. Kern: J. Electrochem. Soc., 137 (1990) 1887.
DOI
|
12 |
J. Ryuta, E. Morita, T. Tanaka and Y. Shimanuki: Jpn. J. Appl. Phys., 29 (1990) 1947.
|
13 |
H. Kobayashi, J. Ryuta, T. Shingyouji and Y. Shimanuki: Jpn. J. Appl. Phys., 32 (1993) 45.
|
14 |
C. R. Inomata, H. Ogawa, K. Ishikawa and S. Fujimura: J. Electrochem. Soc., 143 (1996) 2995.
DOI
|
15 |
G. H. Lee and S. I. Bae: Korean Chem. Eng. Res., 2 (2007) 203.
|
16 |
G. W. Gale, D. L. Rath, E. I. Cooper, S. Estes, H. F. Okorn, J. Brigante, R. Jagannathan, G. Settembre and E. Adams: J. Electrochem. Soc., 148 (2001) 513.
|
17 |
Y. S. Mok, J. O. Jo, S. T. Kim, W. T. Jeong, D. W. Kang, B. H. Rhee and J. K. Kim: KSEE, 29 (2007) 68.
|
18 |
N. Kitajima, S. Funkuzumi and Y. Ono: J. Phys. Chem., 82 (1978) 1505.
DOI
|
19 |
Y. Mori, K. Uemura, K. Shimanoe and T. Sakon: J. Electrochem. Soc., 142 (1995) 3104.
DOI
|
20 |
J. H. Kim, S. H. Kong, G. I. Son and Y. S. Kim: EER., 22 (2001) 73.
|
21 |
D. Liu, Z. Li, Z. X. Li and R. Kumar: Carbohydr. Polym., 111 (2014) 469.
DOI
|
22 |
P. Ciesla, A. Karocki and Z. Stasicka: J. Photochem. Photobiol. A Chem., 162 (2004) 537.
DOI
|
23 |
D. B. Kent, J. A. Davis, L. C. Anderson, B. A. Rea and J. A. Coston: Geochim. Cosmochim. Acta., 66 (2002) 3017.
DOI
|
24 |
Y. G. Park and Y. S. Yang: Clean Technol., 20 (2014) 367.
DOI
|
25 |
G. V. Korshin, H. S. Chang, A. I. Frenkel and J. F. Ferguson: Environ. Sci. Technol., 41 (2007) 2560.
DOI
|