1 |
S. Iijima: Nature, 354 (1991) 56
DOI
|
2 |
Y. Lan, Y. Wang and Z. F. Ren: Adv. Phys., 60 (2011) 553.
DOI
|
3 |
M. Terrones, N. Grobert, J. Olivers, J. P. Zhang, H. Terrone, K. Kordatos, W. K. Hsu, J. P. Hare, P. D. Townsend, K. Prassides, A. K. Cheetham, H. W. Kroto and D. R. M. Walton: Nature, 388 (1997) 52.
DOI
|
4 |
M. Meyyappan, L. Delzeit, A. Cassell and D. Hash: Plasma Sources Sci. Tech., 12 (2003) 205.
DOI
|
5 |
V. N. Popov: Mater. Sci. Eng. R-Rep., 43 (2004) 61.
DOI
|
6 |
W. A. deHeer, W. S. Bacsa, A. Châtelain, T. Gerfin, R. Humphrey-Baker, L. Forro and D. Ugarte: Science, 268 (1995) 845.
DOI
|
7 |
H. Sugie, M. Tanemura, V. Filip, K. Iwata, K. Takahashi and F. Okuyama: Appl. Phys. Lett., 78 (2001) 2578.
DOI
|
8 |
J. Kong, N. R. Franklin, C. Zhou, M. G. Chapline, S. Peng, K. Cho and H. Dai: Science, 287 (2000) 622.
DOI
|
9 |
H. Pan, J. Li and Y. P. Feng: Nanoscale Res. Lett., 5 (2010) 654.
DOI
|
10 |
E. Frackowiaka and F. Beguin: Carbon, 39 (2001) 937.
DOI
|
11 |
E. T. Thostensona, Z. Renb and T. W. Chou: Compos. Sci. Technol., 61 (2001) 1899.
DOI
|
12 |
B. Corry: J. Phys. Chem. B, 112 (2008) 1427.
DOI
|
13 |
C. J. Lee, J. H. Park, Y. Huh and J. Y. Lee: Chem. Phys. Lett., 343 (2001) 33.
DOI
|
14 |
J. Yun, W. Jeon, F. Alam Khan, J. Lee and S. Baik: Nanotechnology, 26 (2015) 235701.
DOI
|
15 |
Q. Zhang, D. G. Wang, J. Q. Huang, W. P. Zhou, G. H. Luo, W. Z. Qian and F. Wei: Carbon, 48 (2010) 2855.
DOI
|
16 |
S. Chakrabarti, H. Kume, L. Pan, T. Nagasaka and Y. Nakayama: J. Phys. Chem. C, 111 (2007) 1929.
DOI
|
17 |
Q. H. Wang, A. A. Setlur, J. M. Lauerhaas, J. Y. Dai, E. W. Seeling and R. P. H. Chang: Appl. Phys. Lett., 72 (1998) 2912.
DOI
|