Study for Gas Flow Uniformity Through Changing of Shape At the High Density Plasma CVD (HDP CVD) Chamber |
Jang, Kyung-Min
(Korea University of Technology and education)
Kim, Jin-Tae (MEMC Korea) Hong, Soon-Il (NEST) Kim, Kwang-Sun (Korea University of Technology and education) |
1 | Chiu, W.K.S., and Jaluria, Y., "Heat and Mass Transfer in Continuous CVD Reactor," Pro. 11th Int. Heat Transfer Conf., Vol. 5, pp.187-192, 1998 |
2 | 오성진, 박경우, 김기문, 박희용., "수평 CVD 반응기에서의 3차원 혼합대류 열전달 특성," 대한 기계학회 논문집 B권, 제22권 제5호, pp.672-684,1998 |
3 | 조원국, 최도형, 김문언., "원통형 화학증착로에서 균일한 박막 형성을 위한 입구 농도분포 최적화", 대한기계학회 논문집 B권, 제22권 제2호, pp.173-183,1998 |
4 | 김진태, "반도체 공정에서의 HDP CVD 챔버 최적형상에 관한 연구", 한국기술교육대학교 석사학위 논문, 2009 |
5 | Bolocher, J.M., and Oxley, J.H., "Chemical vapor deposition opens new horizons in ceramic technology", Am. Ceram. Soc. Bull., Vol.41 pp,81-84. 1962. |
6 | Powell, C.F., Vapor deposition, New York Wiley. 1966 |
7 | Hiroshi, K., CVD핸드북,(공역) 이시우, 이전, 반도출판사. 1922 |
8 | F.C. Eversteyn, P.J.W. severin, C.H.J.v.d. Brekel, and H.L. Peek, "A Stagnat Layer Model for the Epitaxial Growth of Silicon from Silane in a Horizontal Reactor", Journal of the Electrochemical Society, Vol.117, pp.925-931, 1970 DOI |