Information Display (인포메이션 디스플레이)

The Korean Infomation Display Society (한국정보디스플레이학회)
권호 표지

Microcolumn and field emission elecrton sources

마이크로컬럼과 전계방출 전자 소스

  • 김호섭 (선문대학교 디스플레이반도체공학과, 나노학과, 차세대반도체기술연구소)
  • Published : 2020.10.31
Download PDF
⟨ Previous Next ⟩

Abstract

Keywords

References

  1. E. Kratschmer, H. S. Kim, M. G. R. Thomson, K. Y. Lee, S. A. Rishton, M. L. Yu, S. Zolgharnain, B. W. Hussey, T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 14(6), 3792 (1996) https://doi.org/10.1116/1.588669
  2. T, H. P. Chang, M. G. R. Thomson, E. Kratschmer, H. S. Kim, M. L. Yu, K. Y. Lee, S. A. Rishton, B. W. Hussey, S. Zolgharnain, J. Vac. Sci. Technol. B, 14(6), 3774 (1996) https://doi.org/10.1116/1.588666
  3. H. S. Kim, M. L. Yu, U. Staufer, L. P. Muray, D. P. Kern, T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 11(6), 2327 (1993) https://doi.org/10.1116/1.586981
  4. J. H. Ryu, J. S. Kang, K. C. Park, Materials, 5(11), 2353 (2012) https://doi.org/10.3390/ma5112353
  5. J. M. Bonard, K. A. Dean, B. F. Coll, C. Klinke, Phys. Rev. Lett., 89(19), 197602 (2002) https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.89.197602
  6. N. D. Jonge, N. J. van Druten, Ultramicroscopy, 95, 85 (2003) https://doi.org/10.1016/S0304-3991(02)00301-7
  7. S. K. Kanth, A. Sharma, B. C. Park, H. S. Kim, J. Vac. Sci. Technol. B, 34(1), 011805 (2016) https://doi.org/10.1116/1.4939834
  8. T. H. P. Chang, D. P. Kern, L. P. Muray, J. Vac. Sci. Technol. B, 8(6), 1698 (1990) https://doi.org/10.1116/1.585142
  9. M. G. R. Thomson, T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 13(6), 2445 (1995) https://doi.org/10.1116/1.588018
  10. H. Kim, C. H. Han, K. J. Chun, Jap. J. App. Phys., 42(6B), 4084 (2003) https://doi.org/10.1143/JJAP.42.4084
  11. H. Kim, C. H. Han, J. W. Kim, H. S. Kim, K. J. Chun, J. Vac. Sci. Technol. B, 22(6), 2912 (2004) https://doi.org/10.1116/1.1824952
  12. J. W. Jeong, D. J. Kim, H. S. Kim, S. K. Choi, D. Y. Kim, H. R. Lee, Jap. J. App. Phys., 44(7B), 5565 (2005) https://doi.org/10.1143/JJAP.44.5565
  13. T, H. P. Chang, D. P. Kern, M. A. McCord, J. Vac. Sci. Technol. B, 7(6), 1855 (1989) https://doi.org/10.1116/1.584680
  14. T, H. P. Chang, D. P. Kern, L. P. Muray, J. Vac. Sci. Technol. B, 10(6), 2743 (1992) https://doi.org/10.1116/1.585994
  15. K. Y. Lee, S. A. Rishton, T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 12(6), 3425 (1994) https://doi.org/10.1116/1.587525
  16. K. Y. Lee, N. LaBianca, S. A. Rishton, S. Zolgharnain, J. D. Gelorme, J. Shaw, T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 13(6), 3012 (1995) https://doi.org/10.1116/1.588297
  17. M. G. R. Thomson, J. Vac. Sci. Technol. B, 14(6), 3802 (1996) https://doi.org/10.1116/1.588671
  18. M. Mankos, K. Y. Lee, L. Muray, J. Spallas, Y. Hsu, C. Stebler, W. DeVore, E. Bullock, T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 18(6), 3057 (2000) https://doi.org/10.1116/1.1321756
  19. T. S. Oh, D. W. Kim, S. J. Ahn, H. S. Kim, J. Vac. Sci. Technol. A, 31(6), 061601 (2013)
  20. T. S. Oh, H. S. Kim, S. J. Ahn, D. W. Kim, Ultramicroscopy, 136, 171 (2014) https://doi.org/10.1016/j.ultramic.2013.10.003
  21. J. Y. Park, J. D. Lera, M. A. Yakshin, S. S. Choi, Y. Lee, K, J. Chun, J. D. Lee, D. Jeon, Y. Kuk, J. Vac. Sci. Technol. B, 15(6), 2749 (1997) https://doi.org/10.1116/1.589720
  22. L. P. Muray, K. Y. Lee, J. P. Spallas, M. Mankos, Y. Hsu, M. R. Gmur, H. S. Gross, C. B. Stebler, T. H. P. Chang, Microelectron. Eng., 53, 271 (2000) https://doi.org/10.1016/S0167-9317(00)00313-0
  23. T. H. P. Chang, M. Mankos, K. Y. Lee, L. P. Muray, Microelectron. Eng., 57-58, 117 (2001) https://doi.org/10.1016/S0167-9317(01)00528-7
  24. H. S. Kim, D. W. Kim, S. Ahn, S. S. Park, M. H. Seol, Y. C. Kim, S. K. Choi, D. Y. Kim, J. Korean Phys. Soc., 45, 1214 (2004)
  25. H. S. Kim, D. W. Kim, S. Ahn, Y. C. Kim, J. W. Cho, S. K. Choi, and D. Y. Kim, Microelectron. Eng., 78-79, 55 (2005) https://doi.org/10.1016/j.mee.2004.12.092
  26. U. Staufer, L. P. Murray, O. P. Kern, T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 9(6), 2962 (1991) https://doi.org/10.1116/1.585634
  27. M. L. Yu, H. W. Hussey, H. S. Kim, T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 12(6), 3431 (1994) https://doi.org/10.1116/1.587526
  28. H. S. Kim, M. L. Yu, E. Kratschmer, M. G. R. Thomson, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 12(6), 3413 (1994) https://doi.org/10.1116/1.587523
  29. H. S. Kim, M. L. Yu, E. Kratschmer, M. G. R. Thomson, and T. H. P. Chang, J. Appl. Phys., 81(1), 461 (1997) https://doi.org/10.1063/1.364081
  30. E. Kratschmer, H. S. Kim, M. G. R. Thomson, K. Y. Lee, S. A. Rishton, M. L. Yu, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 12(6), 3503 (1994) https://doi.org/10.1116/1.587459
  31. L. W. Swanson, J. Vac. Sci. Technol., 12(6), 1228 (1975) https://doi.org/10.1116/1.568503
  32. M. Gesley, J. Appl. Phys., 65(3), 914, (1989) https://doi.org/10.1063/1.342993
  33. M. G. R. Thomson, R. Liu, R. J. Collier, H. T. Carroll, E. T. Doherty, R. G. Murray, J. Vac. Sci. Technol. B, 5(1), 53 (1987) https://doi.org/10.1116/1.583926
  34. M. G. R. Thomson, J. Vac. Sci. Technol. B, 12(6), 3498 (2014) https://doi.org/10.1116/1.587458
  35. W. I. Milne, K. B. K. Teo, G. A. J. Amaratunga, P. Legagneux, L. Gangloff, J-P. Schnell, V. Semet, V. Thien Binh, O. Groeningd, J. Mater. Chem., 14, 933 (2004) https://doi.org/10.1039/b314155c
  36. J. H. Ryu, K. S. Kim, C. S. Lee, J. Jang, K. C. Park, J. Vac. Sci. Technol. B, 26(2), 856 (2008) https://doi.org/10.1116/1.2884757
  37. J. W. Jeong, J. W. Kim, J. T. Kang, S. Y. Choi, S. J. Ahn, Y. H Song, Nanote chnology, 24(8), 085201 (2013) https://doi.org/10.1088/0957-4484/24/8/085201
  38. J. W. Kim, J. W. Jeong, J. T. Kang, S. Y. Choi, S. J. Ahn, Y. H. Song, Nanote chnology, 25(6), 065201 (2014) https://doi.org/10.1088/0957-4484/25/6/065201
  39. J. W. Kim, J. W. Jeong, J. T. Kang, S. Y. Choi, S. R. Park, M. S. Shin, S. J. Ahn, Y. H. Song, Carbon, 82, 245 (2015) https://doi.org/10.1016/j.carbon.2014.10.068