References
- S. H. Kim, D. W. Lee, and K. H. Chung, Kor. J. Mater. Res. 9, 65 (1999)
- M. M. D. Ramos, A. M. Stoncham, and A. P. Sutton, Acta. Met. Mater. 41, 2105 (1993) https://doi.org/10.1016/0956-7151(93)90380-B
- S. J. Park, K. S. Cho, and S. H. Kim, Hwahak Konghak 40, 613 (2002)
- J. W. Choi, T. S. Oh and Y. H. Kim, J. Kor. Inst. Met. & Mater. 35, 542 (1997)
- H. J. Kang, P. N. Park, S. J. Park, and S. Y. Choi, Electro. Technol. Res. 203, 8 (2003)
- M. L. Sartorelli, A. Q. Schervenski, R. G. Delatorre, and P. Klauss, Phys. Stat. Sol. 187, 91 (2001) https://doi.org/10.1002/1521-396X(200109)187:1<91::AID-PSSA91>3.0.CO;2-9
- J. H. Hong, Y. H. Lee, S. H. Han, and K. J. Kim, Surf. Coat. Techno. 201, 197 (2006) https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2005.11.084
- C. H. Yang, S. C. Lee, J, M. Wu, and T. C. Lin, Appl. Surf. Sci. 252, 1818 (2005) https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2005.03.182
- W. J. Lee, Y. S. Lee, S. K. Rha, Y. J. Lee, K. Y. Lim, Y. D. Chung, and C. N. Whang, Appl. Surf. Sci. 205, 128 (2003) https://doi.org/10.1016/S0169-4332(02)01016-4
- A. P. Paync and B. M. Clemens, J. Mater. Res. 7, 1370 (1992) https://doi.org/10.1557/JMR.1992.1370
- A. G. Dirks and J. J. van den Broek, J. Vac. Sci. Technol. A3, 2618 (1985) https://doi.org/10.1116/1.572799
- C. J. Wang, C. A. Chang, C. E. Farrel, and A. G. Schrott, Appl. Phys. Lett. 62, 654 (1993) https://doi.org/10.1063/1.108888
- J. Kim, S. H. Wen, and D. Yee, J. Vac. Sci. Technol. A6, 2366 (1988) https://doi.org/10.1116/1.575557
- T. X. Liang, Y. Q. Liu, Z. Q. Fu, Z. Q. Luo, and K. Y. Zhang, This Solid films 473, 247 (2005) https://doi.org/10.1016/j.tsf.2004.07.073
- H. S. Lee, H. S. Kim, and C. M. Lee, J. Kor. Inst. Met. & Mater. 39, 920 (2001)
- S. H. Kim, S. H. Cho, N. E. Lee, H. M. Kim, Y. W. Nam, and Y. H. Kim, Surf. Coat. Technol. 193, 101 (2005) https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2004.08.130
- S. B. Lee, Y. K. Kim, and J. S. Kim, Kor. J. Mater. Resea. 16, 543 (2006)
- R. Haight, R. C. White, B. D. Silverman, and P. S. Ho, J. Vac. Sci. Technol. A6, 2188 (1988) https://doi.org/10.1116/1.575010
- A. M. Ektessabi and S. Hakamata, Thin Solid Films 621, 377 (2000) https://doi.org/10.1016/S0040-6090(00)01444-9
- Y. Momose, T. Ohalm, H. Chuma, S. Okazaki, T. Saruta, M. Masui, M. Takeuchi, and H. K. Yasuda, Hohn Wiley & Sons p.153 (1990)
- Y. K. Lee and T. J. O'keefe, JOM 54, 44 (2002)
- S. Yoshimura, S. Yoshihara, T. Shirakashi, and E. Sato, Electrochim. Acta. 39, 589 (1994) https://doi.org/10.1016/0013-4686(94)80105-3
- T. G. Woo, I. L. Park, M. H. Lee, E. K. Park, and K. W. Seol, J. Kor. Inst. Met. & Mater. 45, 478 (2007)
- D. N. Lee, J. Mat. Sci. 24, 4375 (1989) https://doi.org/10.1007/BF00544515