Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD (대한전자공학회논문지SD)

The Institute of Electronics and Information Engineers (대한전자공학회)
권호 표지

A Study on Recycling Technology of EC for Semiconductor and LCD PR Stripping Process

반도체/LCD PR 제거용 EC의 재이용 기술에 관한 연구

  • Moon, Se-Ho (Dept. of Electronics Engineering, Hoseo University) ;
  • Chai, Sang-Hoon (Dept. of Electronics Engineering, Hoseo University)
  • 문세호 (호서대학교 전자공학과) ;
  • 채상훈 (호서대학교 전자공학과)
  • Received : 2009.05.15
  • Published : 2009.10.25
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Abstract

We have developed recycling technology of ethylen carbonate to use in photoresist stripping and cleaning process, which will be core processing technology for high performance and low price semiconductor and LCD fabrication. Using this technology, it is possible for semiconductor wafer and LCD planer to process more rapid and chip, and productivity will be improved.

오존을 이용하여 PR 박리에 사용된 에틸렌 카보네이트계 박리 세정제를 재이용할 수 있는 기술에 대하여 연구함으로써 향후 고성능-저가격의 반도체, LCD 제조에서의 PR 박리 및 세정 공정에 적용할 수 있는 핵심 공정기술을 확보하였다. 이 기술을 적용하면 반도체 웨이퍼 및 LCD 평판의 PR 박리 세정을 보다 빠르고 저렴한 비용으로 수행할 수 있으므로 반도체 및 LCD 제작공정의 생산성을 향상시킬 수 있다.

Keywords

References

  1. 이호열, 한지원, 이명진, 박병덕, 한상원, 이승기,박선우, 황인국, 배재흠, '마이크로 에멀전형 준수계세정제의 배합조건 변화에 따른 물리적 특성 및 세정성능영향' 한국공업화학회지, 14(2), pp.142-151, 2003
  2. 박지희, 차안정, 김홍곤, 배재흠 '2,2,2-tri-fluoro ethanol (TFEA)의 대체 세정제 적용연구', 한국공업화학회지, 15(7), pp.773-778, 2004
  3. 김한성, 차안정, 배재흠, 이호열, 이명진, 박병덕, '수계/준수계 세정제의 개발 및 전자부품세정공정적용연구', Clean Technolgy, 10(2), pp. 61-72, 2004
  4. 손영수, 채상훈, 'PR 제거공정 적용을 위한 오존수 생성기술 연구', 대한전자공학회 논문지 제41권 SD편 제12호, pp. 1107-1114, 2004년 12월
  5. 飯沼知久, 平川査, '高純度エチレンカ－ボ>ネ－ト新規レジスト剥離剤', 東亞合成研究年報第7号, pp. 44-45, 2004年
  6. 門西, 'S E TのF P D用レジスト剥離.洗浄装置',Electronic Journal, 3月号, 2003年