Abstract
Due to the modem MEMS technologies, the electron lenses that are used in the microcolumn can have much smaller optical aberrations compared with conventional electron lenses for the bulky electron columns. Since the electron lens system have great effect on the performance of the microcolumn, it is important to study the dependence of image quality on the configuration of the electronic imaging system, among which the source-lens part is most sensitive. In this work, we investigated the electron beam characteristics according to the shapes of extractor and limiting aperture that are elements of the source-lens part. By analyzing the data obtained, we proposed the optimum configuration of the electron lens system.
마이크로칼럼에 사용되는 전자렌즈는 MEMS 공정으로 정밀하게 가공되어 기존의 전자칼럼에 비하여 광학수차를 최소화 할 수 있으며, 이는 전자칼럼의 성능 향상에 주요한 요소로 작용한다. 습식 식각과 건식 식각에 의해 형성되는 전자렌즈의 모양과 배열조합에 따른 전자 광학계 연구는 중요한 의미가 있다. 마이크로칼럼은 전자방출원, source 렌즈, deflector, focus 렌즈(Einzel 렌즈)로 구성되는데, 전자빔의 특성에 가장 큰 영향을 주는 source 렌즈의 구성 요소 중 extractor와 limiting aperture의 모양에 따른 전자빔 특성을 조사하여 마이크로칼럼 제작에 있어서 최적화된 전자렌즈 조합을 도출하였다.
