한국산학기술학회논문지 (Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society)
- 제8권4호
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- Pages.743-747
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- 2007
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- 1975-4701(pISSN)
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- 2288-4688(eISSN)
Monte Carlo 수치해석법을 이용한 PMMA resist에서의 저 에너지 전자빔 투과 깊이에 관한 연구
Research on the penetration depth of low-energy electron beam in the PMMA-resist film using Monte Carlo numerical analysis
- 발행 : 2007.08.31
초록
반도체 소자 제작에 있어서 회로의 pattern 형성에 이용하는 차세대 lithography 공정 기술을 위해서 전자빔 lithography 공정 기술 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 Gauss 해석법과 Monte Carlo의 수치해석법을 사용하여 두께 100 nm의 PMMA (poly-methyl-methacrylate) resist에 전자
There has been steady effect for the development of the electron-beam lithography technologies for the circuit patterning of the future semiconductor devices. In this study, we have performed a Monte-Carlo simulation whore
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