청정기술 (Clean Technology)
- 제13권2호
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- Pages.109-114
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- 2007
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- 1598-9712(pISSN)
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- 2288-0690(eISSN)
반도체 생산공정의 대기질 개선을 위한 복합 대기오염물의 습식화학 제거공정
Wet Chemical Process for Improving Air Quality in Semiconductor Manufacturing Process
- 전창성 (고려대학교 화공생명공학과) ;
- 김학주 (고려대학교 화공생명공학과) ;
- 박영무 (고려대학교 화공생명공학과) ;
- 이대원 (고려대학교 청정화공연구소) ;
- 함동석 (삼성전자주식회사) ;
- 전상문 (삼성전자주식회사) ;
- 이관영 (고려대학교 화공생명공학과)
- Jun, Chang-Sung (Department of Chemical & Biological Engineering, Korea University) ;
- Kim, Hak-Ju (Department of Chemical & Biological Engineering, Korea University) ;
- Park, Young-Moo (Department of Chemical & Biological Engineering, Korea University) ;
- Lee, Dae-Won (Research Institute of Clean Chemical Engineering Systems, Korea University) ;
- Ham, Dong-Suk (Samsung Electronics Co., Ltd.) ;
- Jeon, Sang-Moon (Samsung Electronics Co., Ltd.) ;
- Lee, Kwan-Young (Department of Chemical & Biological Engineering, Korea University)
- 발행 : 2007.06.30
초록
본 연구에서는 반도체 제조공정 내의 습식 대기공조 정화설비에 사용될 화학수용액의 선정과 이를 이용한 대기오염물 정화 모사시험을 수행하였다. 50 ppm의
In this study, we performed basic researches to develop wet purification system for improving air qualities of ventilation in semiconductor manufacturing process. Using 0.5 M aqueous solution of
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