Clean Technology (청정기술)
- Volume 13 Issue 2
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- Pages.109-114
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- 2007
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- 1598-9712(pISSN)
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- 2288-0690(eISSN)
Wet Chemical Process for Improving Air Quality in Semiconductor Manufacturing Process
반도체 생산공정의 대기질 개선을 위한 복합 대기오염물의 습식화학 제거공정
- Jun, Chang-Sung (Department of Chemical & Biological Engineering, Korea University) ;
- Kim, Hak-Ju (Department of Chemical & Biological Engineering, Korea University) ;
- Park, Young-Moo (Department of Chemical & Biological Engineering, Korea University) ;
- Lee, Dae-Won (Research Institute of Clean Chemical Engineering Systems, Korea University) ;
- Ham, Dong-Suk (Samsung Electronics Co., Ltd.) ;
- Jeon, Sang-Moon (Samsung Electronics Co., Ltd.) ;
- Lee, Kwan-Young (Department of Chemical & Biological Engineering, Korea University)
- 전창성 (고려대학교 화공생명공학과) ;
- 김학주 (고려대학교 화공생명공학과) ;
- 박영무 (고려대학교 화공생명공학과) ;
- 이대원 (고려대학교 청정화공연구소) ;
- 함동석 (삼성전자주식회사) ;
- 전상문 (삼성전자주식회사) ;
- 이관영 (고려대학교 화공생명공학과)
- Published : 2007.06.30
Abstract
In this study, we performed basic researches to develop wet purification system for improving air qualities of ventilation in semiconductor manufacturing process. Using 0.5 M aqueous solution of
본 연구에서는 반도체 제조공정 내의 습식 대기공조 정화설비에 사용될 화학수용액의 선정과 이를 이용한 대기오염물 정화 모사시험을 수행하였다. 50 ppm의
Keywords
- Water spraying system;
- Semiconductor manufacturing process;
- Ventilation;
- Air atomizing type nozzle$KMnO_4$
- 반도체 제조공정;
- 대기공조;
- 이산화망간;
- 액상분사 시스템;
- 공기압 분사식 노즐;