화학 증폭형 포토레지스트 수지의 종류에 따른 산증식제 4-Hydroxy-4'-p-tosyloxy Isopropylidene Dicyclohexane의 효과

Effect of Acid Amplifier, 4-Hydroxy-4'-p-tosyloxy Isopropylidene Dicyclohexane, on the Kind of Resin in Chemically Amplified Photoresist

  • 강지은 (부경대학교 공과대학 화상정보공학부) ;
  • 임권택 (부경대학교 공과대학 화상정보공학부) ;
  • 정연태 (부경대학교 공과대학 화상정보공학부)
  • Kang, Ji Eun (Division of Image and Information Engineering, Pukyong National University) ;
  • Lim, Kwon Taek (Division of Image and Information Engineering, Pukyong National University) ;
  • Jeong, Yeon Tae (Division of Image and Information Engineering, Pukyong National University)
  • 투고 : 2004.11.18
  • 심사 : 2005.02.01
  • 발행 : 2005.04.10

초록

대표적인 지방족 산증식제인 4-hydroxy-4'-p-tosyloxy isopropylidene dicyclohexane을 산에 민감한 고분자인 poly[tert-butyl methacrylate] (pTBMA), poly[tetrahydropyranylmethacrylate] (pTHPMA) 및 poly[tert-butoxycarbonyloxystyrene] (pTBOCST) 수지에 첨가하여 열적 안정성과 감도 증진의 관점에서 산증식제의 효과를 비교하였다. 산증식제는 pTBMA 또는 pTBOCST 필름에서는 $120^{\circ}C$에서 20 min까지 안정하였으며, pTHPMA 필름에서는 5 min까지 안정하였다. 산증식제를 첨가한 레지스트의 감도 증진효과는 pTBMA는 4배, pTHPMA는 2배 정도 증진되었지만, pTBOCST의 경우는 감도 증진효과가 미미하였다. 이를 통하여 산증식제의 감도 증진효과와 열적 안정성은 수지의 종류에 따라 다르게 나타나는 것을 알 수 있었다.

We compared the effects of a representative aliphatic acid amplifier, 4-hydroxy-4'-p-tosyloxy isopropylidene dicyclohexane, doped in poly[tert-butyl methacrylate] (pTBMA), poly[tetrahydropyranyl methacrylate] (pTHPMA) or poly[tert-butoxycarbonyloxystyrene] (pTBOCST) resin film as acid labile polymer in view of thermal stability and photosensitivity enhancement. The acid amplifier was stable up to 20 min in pTBMA and pTBOCST film and up to 5 min in pTHPMA film at $120^{\circ}C$. pTBMA and pTHPMA films doped with the acid amplifier showed four times and two times higher photosensitivity, respectively. But pTBOCST showed negligible photosensitivity enhancement. Photosensitivity enhancement and thermal stability were found to be affected by the resin.

키워드

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