References
- C. Stebler, T. Pfeffer, U. Staufer, and N. F. de Rooji, Microelectronic Eng., 46, 401 (1999) https://doi.org/10.1016/S0167-9317(99)00118-5
- Y. C. Kim, D. W. Kim, S. J. Ahn, H. S. Kim, W. K. Jang, Optical Society of Korea, 13, 314 (2002)
- J. Park, J. D. Lera, M. A. Yakshin, S. S. Choi, Y. Lee, K. J. Chun, J. D. Lee, D. Jeon, and Y. Kuk, J. Vac. Sci. Technol. B, 15, 2749 (1997) https://doi.org/10.1116/1.589720
- Y. J. Lee, S. H. Kang, D. H. Kim, J. Park, H. H. Choi, Y. Kuk, and K. Chun, Microelectronic Eng., 41/42, 485 (1999) https://doi.org/10.1016/S0167-9317(98)00113-0
- D. W. Kim, Y. Kim, Y. C. Kim, H. S. Kim, S. Ahn, Y. Y. Park. D. W. Kim, Jpn, J. Appl. Phys., 42, 3842 (2003) https://doi.org/10.1143/JJAP.42.3842
- B. J. Lin, MNC2002 Conference Processing, 28 (2002)
- S. Ahn, D. W. Kim, H. S. Kim, S. J. Ahn, J. Cho, Microelectronic Eng., 69, 57 (2003) https://doi.org/10.1016/S0167-9317(03)00229-6
- H. S. Kim, M. L. Yu, E. Kratschmer, B. W. Hussey, M. G. R. Thomson, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 13, 2468 (1995) https://doi.org/10.1116/1.588023
- M. G. R. Thomson, J. Vac. Sci. Technol. B, 14, 3802 (1996) https://doi.org/10.1116/1.588671
- T. H. P. Chang, M. G. R. Thomson, M. L. Yu, E. Kratschmer, H. S. Kim, K. Y. Lee, S. A. Rishton, S. Zolgharnain, Microelectronic Eng., 32, 113 (1996) https://doi.org/10.1016/0167-9317(95)00366-5
- H. S. Kim, M. L. Yu, U. Staufer, L. P. Muray, D. P. Kern and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 11, 2327 (1993) https://doi.org/10.1116/1.586981
- M. L. Yu, B. W. Hussey, H. S. Kim, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 12, 3431 (1994) https://doi.org/10.1116/1.587526
- E. Bassous, IEEE Trans. Electron Devices, ED-25, 1178 (1978) https://doi.org/10.1109/T-ED.1978.19249
- K. Y. Lee, S. A. Rishton, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 12, 3425 (1994) https://doi.org/10.1116/1.587525
- E. Kratschmer, H. S. Kim, M. G. R. Thomson, K. Y. Lee, A. S. Rishton, M. L. Yu, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 13, 2498 (1995) https://doi.org/10.1116/1.588381
- E. Kratschmer, H. S. Kim, M. G. R. Thomson, K. Y. Lee, A. S. Rishton, M. L. Yu, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B, 12, 3503 (1994) https://doi.org/10.1116/1.587459