Development of the DIW-$O_3$ Cleaning Technology Substituted for the Semiconductor Photoresist Strip Process using the SPM
SPM을 이용한 반도체 포토레지스트 제거 공정 대체를 위한 DIW-$O_3$ 방식 세정기술 개발
- Published : 2003.12.30
Abstract
Recently the utilization of the ozone dissolved de-ionized water(DIW-