Abstract
In this parer, the removal rate of NO in a reactor is rreasured first using nonthermal plasma generated from a wire-cylinder type reactor, then the discharge image and horizontal signal strength and vertical signal strength of NO particles is observed using ICCD(Intensified Charged Coupled Device) carrera It was fOlmd that NO rerroval rate was iflLTeased with NO concentration c1ecreasing, and that honzontal signal strength and vertical signal strength were also increased with NO concentration decreasing. Especially, this research is a1!Tffl at clarifying the discharge mechanism of NO particles by observing the images of AC discharge wnen the nonthermal plasma generated by an discharge was used.
본 연구는 전기적 방법인 선대원통형 전극구조에서 발생되는 비열플라즈마를 이용하여 반응장치내에서의 NO의 제거율을 측정하고, 또 방전시의 방전 Image와 수평방향과 수직방향의 신호강도를 ICCD카메라를 이용하여 관측하였다. NO입자의 제거율은 NO농도가 낮을수록 높아지는 것을 확인할 수 있었으며, 수평방향의 신호강도와 수직방향의 신호강도는 NO농도가 낮을수록 큰 것을 확인할 수 있었다. 특히 방전에 의해 발생되는 비열플라즈마를 이용했을때의 교류방전시의 Image를 관측함으로써 NO입자의 방전 메카니즘을 보다 명확하게 규명하고자 하였다.