청정기술 (Clean Technology)

  • 제6권1호
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  • Pages.79-84
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  • 2000
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  • 1598-9712(pISSN)
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  • 2288-0690(eISSN)
한국청정기술학회 (The Korean Society of Clean Technology)
권호 표지

환경친화적인 실리콘 웨이퍼 세정 연구

A Study on environmental-friendly Cleaning for Si-wafers

  • 윤호섭 (순천향대학교 신소재공학과) ;
  • 류근걸 (순천향대학교 신소재공학과)
  • Yoon, Hyoseob (Dept. of Advanced Materials Eng., Soonchunhyang University) ;
  • Ryoo, Kunkul (Dept. of Advanced Materials Eng., Soonchunhyang University)
  • 발행 : 2000.06.01
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초록

반도체 세정공정에서 사용되는 화학약품의 소모량을 줄이기 위하여 소량의 전해질 혹은 초순수만을 전기분해 시켜 생성되는 전리수를 이용하여 금속 불순물들이 오염된 실리콘 웨이퍼를 습식세정을 하였다. 전리수는 다양한 범위의 pH 및 산화환원전위(oxidation-reduction potential, ORP)를 형성할 수 있으며, 전리수의 양극수는 pH 및 산화환원전위를 각각 4.7 및 +1000mV의 산화성 수용액을, 전리수의 음극수는 pH 및 산화환원전위가 각각 6.3 및 -550mV를 40분 이상 유지하고 있었다. 실리콘 웨이퍼 세정 전과 후의 금속 불순물 측정은 ICP-MS(Inductively coupled plasma spectroscopy)를 사용하였다. 전리수 가운데 양극수는 구리 불순물 제거에, 음극수는 철 불순물 제거에 효과적임을 확인하였다.

In this study, to reduce the consumption of chemicals in cleaning processes, Si-wafers contaiminated with metallic impurities were cleaned with electrolyzed water(EW), which was generated by the electrolysis of a diluted electrolyte solution or ultra pure water(UPW). Electrolyzed water could be controlled for obtaining wide ranges of pH and ORP(oxidation-reduction potential). The pH and oxidation-reduction potential of anode water and cathode water were measured to be 4.7 and +1000mV, and 6.3 and -550mV, respectively. To analyze the amount of metallic impurities on Si-wafer surfaces, ICP-MS was introduced. Anode water was effective for Cu removal, while cathode water was more effective for Fe removal.

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