Applied Microscopy
- 제30권3호
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- Pages.249-254
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- 2000
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- 2287-5123(pISSN)
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- 2287-4445(eISSN)
Co/Al 다층 박막 구조 시스템에서의 열처리에 따른 계면 반응에 관한 연구
A Study on the Interfacial Reaction of Co/Al Multilayer System
- Kang, Sung-Kwan (Department of Ceramic Engineering, Yonsei University) ;
- Lee, Sang-Hoon (Department of Ceramic Engineering, Yonsei University) ;
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Ko, Dae-Hong
(Department of Ceramic Engineering, Yonsei University)
- 발행 : 2000.09.01
초록
Co/Al 다층 박막을 2 nm/2 nm, 5 nm/5 nm, 10 nm/10 nm의 두께로 증착한 후, 후속 열처리에 따른 Co/Al 다층 박막의 미세구조와 전기적, 자기적 특성 변화를 관찰하였다. 증착 중에 계면 반응에 의해 CoAl 화합물이 형성되는 사실을 확인하였으며, 후속 열처리에 의해 결정질 화합물 CoAl상의 형성 반응이 활발하게 일어나고, Si과의 계면에서는
We investigated the microstructure, electrical property, and magnetic property of Co/Al multilayer after annealing treatment. CoAl was formed during depositing Co/Al multilayer due to the interfacial reaction. After annealing treatment,