SiGe 헤테로소자의 특성 및 제작기술

  • 심규환 (한국전자통신연구원, 회로소자연구소, SiGe소자팀) ;
  • 김홍승 (한국전자통신연구원, 회로소자연구소, SiGe소자팀) ;
  • 강진영 (한국전자통신연구원, 회로소자연구소, SiGe소자팀)
  • 발행 : 2000.03.01