Abstract
A lot of varIOUS studies are taking advantage of annular masks or various pupil filters to design optical systems such as a digital versatile disc (DVD) pick up head and precise scanning microscopy that have the superresolution beyond the diffraction limit. We considered both annular mask and pupil filter for the superresolution system. Since image quality is a function of annular width, position and modulation amount, we computel'lzed the optimized condition for the phase modulation and mvestigated the variation of lhe center peak: intensity for the phase modulated system From tills result, we were able to detenrune the best conditions for the annular apodizer, wluch give the maximum value of the center peak intensity_ We made especially sure that the phase modulated system have an excellent compensation for spherical aberration as it lllcreases. eases.
최근에 많은 연구들이 디지털 다기능 디스크(DVD) pick up head나 초정밀 주사 현미경과 같은 회절 한계 이상의 초분해능을 갖는 광학계를 개발하기 위해 annular mask나 ppupil filter 등의 다양한 방법을 이용하고 있다. 본 연구진은 초분해능 광학계 개발에 이용되는 annular mask와 phase modulated filter를 동시에 갖는 환형태의 위상 변조 광학계를 개발하기 위한 연구를 수행해 왔다. 이러한 광학계의 결상 특성은 위상 변조 조건, 즉 환형 폭, 환형 위치, 그리고 변조량에 영향을 받게되는데, 본 연구에서는 이러한 위상 변조 조건을 결정할 수 있는 최적화 프로그램을 개발하였다. 프로그램에 의해 결정된 환형 위상 변조 광학계의 위상 변조 조건에 따른 최적 상면에서의 중심 강도 변화를 조사하였다. 이러한 결과로부터 최대 중심 강도를 갖는 최적의 환형 이상 apodizer 조건을 결정할 수 있었고, 특히 광학계가 구면수차를 포함하는 경우 구면수차량이 증가 할수록 수차 보정 능력이 우수함을 알 수 있었다.
