한국진공학회지 (Journal of the Korean Vacuum Society)
- 제8권3A호
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- Pages.249-255
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- 1999
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- 1225-8822(pISSN)
Cu 박막의 특성개선을 위한 플라즈마를 이용한 $H_2$ 전처리 효과
Effects of $H_2$ Pretreatment using plasma for improved characteristics of Cu thin films
초록
Deposition characteristics of Cu thin films using Ar carrier gas and
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