초록
본 연구에서는 e-beam evaporator를 사용하여 제조한 CoCrTa/CrNi 박막시편의 자성층 두께에 따른 부식특성과 열처리에 따른 부식특성의 변화를 알아보았다. Potentiodynamic scan을 이용하여 알아본 결과, 자성층 두께가 증가함에 따라 부식전위가 낮아지고, 부동태 전류밀도가 감소함을 알 수 있었다. XRD를 이용한 분석결과에 따르면, 이것은 자성층 두께가 증가함에 따라 (100)면보다 수소과전압이 큰 (0002)면으로 우선 성장했기 때문이다. 열처리에 따른 CoCrTa(400$\AA$) 자성박막의 부식특성 변화를 potentiodynamic scan과 accelerated corrosion chamber test를 이용하여 알아본 결과, 열처리후 박막시편의 내부식성이 우수해짐을 알 수 있었다. 이것은 열처리에 의해 자성층위에 Cr 산화물층이 형성되고, 이 산화물층이 자성층의 보호막으로 작용했기 때문이다.
The objective of this paper is to investigate corrosion behaviors of CoCrTa/CrNi thin film and post heat-treatment effect. An electron beam evaporator was used for films deposition. After evaporation, post heat-treatment was carried out under $5.0{\times}10^3$ Torr vacuum condition. Annealing temperature and time were 400 $^{\circ}C$ and 30 min, respectively. To understand the effect of annealing on corrosion behavior of CoCrTa/CrNi, potentiodynamic polarization technique and accelerated corrosion chamber test were undertaken. Corrosion potential is higher for the annealed samples (CoCrTa 400$\AA$/CrNi 1000$\AA$) than for as-deposited one. This is attributed to an enrichment of Cr in the surface layer of the thinfilm resulting in a more corrosion resistant material.