Abstract
It is very crucial to make the phase holograms have the exact phase difference in the fabrication process. We have developed a fabrication criterion of obtaining the exact phase difference of the holograms by using the relation between the zeroth order intensity of diffected beam and the relative phsse difference of the fabricaated holograms. We have fabricated holograms having phaes of .pi. and .pi./2, respectively, and we could get multi-phase holograms by combining these two binary thase holograms.
광정보처리와 광연결에 널리 사용되는 위상홀로그램을 제작하기 위해서는 정확한 위상을 갖게 하는 것이 매우 중요하다. 본 논문에서는 광 리소그래피 방식에 의한 위상 홀로그램의 제작 시 요구되는 위상을 얻기 위한 방법으로 회절빔의 0차 세기와 홀로그램의 위상과의 관계를 도입하였고, 이를 이용하여 위상이 각각 $\pi$와 $\pi$/2인 이진 위상 홀로그램을 제작하였다. 이 두 홀로그램을 결합하여 다중 위상 홀로그램을 구현함으로서 이진 위상 홀로그램에서 재생되는 불필요한 영상을 제거할 수 있었다.
