반도체 기억소자용 강유전체 박막의 연구 동향

  • 이성갑 (서남대 공대 전자.전기공학과) ;
  • 이영희 (광운대 공대 전자재료공학과)
  • Published : 1997.01.01

Abstract

이 논문에서는 최근 반도체 집적 기억소자의 소형화 및 기억 용량 증대를 위해 많은 연구가 진행되고 있는 강유전체 재료의 특성과 기억소자로의 응용시 동작원리 및 문제점, 향후전망등에 대해 서술하고자 한다.

Keywords