전자공학회논문지A (Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics A)
- 제33A권7호
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- Pages.134-142
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- 1996
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- 1016-135X(pISSN)
에피 코발트 실리사이드막으로 부터의 붕소 확산을 이용한 극저층 $p^{+}$ n 접합 형성
Ultra shallow $p^{+}$ n junction formation using the boron diffusin form epi-co silicide
초록
The epi-CoSi
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