Abstract
For the micro-lithography using a excimer laser beam $(\lambda\leq0.248$\mu\textrm{m})$. a mirror system consisting of four spherical surfaces with reductlon magnification 5X is designed. Initially the aplanat, flat field and the distortion free condition of the system are analytically investigated within Seidel 3rd order aberrations. And the computer-aided optimization technique has been employed for the further improved performance of the system. The final system has N.A. of 0.15 and image field diameter 3.3 mm, and has the diffraction-limited performance for KrF eximer laser beam.
엑시머 레이저빔($\lambda$ 0.248$\mu\textrm{m}$)을 사용하여 micro-lithography를 위해 축소배율 $5\times$를 갖는 4개의 구면으로 구성된 반사경계를 설계하였다. 먼저 초기광학계로서 Seidel 3차 수차 내에서 구면수차, 코마, 상면만곡, 왜곡수차가 제거된 4구면경계를 해석적으로 구하였다. 이 초기광학계의 성능 향상을 위해 컴퓨터를 이용한 최적화 기법을 사용하였고 그 결과 KrF 엑시머 레이저 광에 대해 N.A. 0.15와 image field diameter 3.3 mm 이내에서 회절 한계까지 제거된 수차 성능을 얻었다.