Electronics and Telecommunications Trends (전자통신동향분석)

Volume 3 Issue 2
/
Pages.37-56
/
1988
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1225-6455(pISSN)

Electronics and Telecommunications Research Institute (한국전자통신연구원)

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ECR 플라즈마를 이용한 반도체 공정기술

박성호 (신소자재료연구실) ;
강봉구 (공정장비연구실)

Published : 1988.07.01

https://doi.org/10.22648/ETRI.1988.J.030204 Citation PDF

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Abstract

ECR 플라즈마는 활성도가 크고 지향성이 강한 고에너지 빔으로서, 고속.고정밀.고 선택비의 식각공정과, 저온.저손상.고 평탄화의 증착공정, 3차원 구조에도 불순물을 원하는 깊이만큼 도우핑할 수 있는 불순물 주입공정 등에 폭넓게 응용될 수 있다.

Keywords