한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)

한국표면공학회 (The Korean Institute of Surface Engineering)
권호 표지

Unbalanced magnetron sputtering과 Segment target을 활용한 CrZr-Si-N 박막의 미세구조와 마모특성

Microstructure and tribological properties of CrZr-Si-N films synthesized by unbalanced magnetron sputtering with Cr-Zr-Si segment target

  • 김동준 (한국항공대학교 표면기술응용연구센터) ;
  • 라정현 (한국항공대학교 표면기술응용연구센터) ;
  • 김성민 (한국항공대학교 표면기술응용연구센터) ;
  • 이상율 (한국항공대학교 표면기술응용연구센터) ;
  • 이상용 (안동대학교 신소재공학부)
  • 발행 : 2012.11.08
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초록

본 연구는 segment target을 사용하여 unbalanced magnetron sputtering을 활용하여 고 CrZr-Si-N 박막을 합성하고 박막의 미세구조 및 마모 특성을 연구하는데 그 목적이 있다. 박막의 Si 함량을 조절하기 위하여 각 segment target은 Cr,Zr을 일정vol% 유지하며 Si vol%만 변화하여 설계하였다. Si 함량별로 제작된 마모실험 시편의 미세구조는 XRD, FE-SEM, AFM, TEM을 통하여 분석하였으며, ball on disk type의 마모 시험기를 통해 그 마모 특성을 분석하였으며,

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