Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)
- 2012.05a
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- Pages.351-352
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- 2012
The effect of hydrogen on microstructure of nc-Si:H thin films deposited by ICP-assisted magnetron sputtering
유도결합 플라즈마가 결합된 마그네트론 스퍼터링에 의해 합성된 미세결정질 실리콘 박막의 미세구조에 미치는 수소의 영향
Abstract
유도결합 플라즈마(ICP)가 결합된 마그네트론 스퍼터링법으로 수소와 알곤의 혼합비율에 따라 기판 가열 없이 유리기판 위에 실리콘 박막을 증착하였다. 수소 유량에 따른 실리콘 박막의 미세구조 변화는 XRD, Raman spectroscopy, FT-IR 등의 분석을 통해 확인하였다. 수소 유량이 증가할수록 박막의 증착률은 감소하였으며, 수소 혼합비율이 60% 이상일 때 비정질 실리콘이 미세결정질 실리콘으로 전이되는 것을 확인하였다.
Keywords