한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)

한국표면공학회 (The Korean Institute of Surface Engineering)
권호 표지

HMDS와 수소를 이용한 플라즈마 공정 제어를 통한 소수성을 가지는 SiOxCyHz 박막합성

Hydrophobic characteristic of SiOxCyHz film by controlling the plasma process for HMDS precursor with hydrogen gas

  • 이준석 (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 진수봉 (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 최윤석 (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 최인식 (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 한전건 (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소)
  • 발행 : 2012.05.31
PDF 다운로드
⟨ 이전 논문 다음 논문 ⟩

초록

일반적으로 낮은 표면에너지는 표면조도 및 표면 화학구조에 의하여 제어된다. 이 실험에서는 $SiO_x$ 박막의 표면에너지를 낮추기 위하여 인가전력을 제어하였으며, 동시에 표면 조도를 변화하였다. 인가전력의 의한 표면 조도 및 화학구조를 AFM과 FT-IR로 분석을 하였다. 더하여, 표면에너지의 변화를 접촉각 측정기로 측정하였다.

키워드