Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)
- 2011.02a
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- Pages.290-290
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- 2011
유도결합플라즈마 식각 장비에서 안테나와 웨이퍼간 거리 차에 따른 플라즈마 변화 연구
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Jo, Tae-Hun
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Yun, Myeong-Su
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Son, Chan-Hui
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- Gang, Jeong-Uk ;
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Kim, Dong-Jin
(JUSUNG ENGINEERING)
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- Choe, Jang-Hun (JUSUNG ENGINEERING) ;
- Nam, Chang-Gil (JUSUNG ENGINEERING) ;
- Jeon, Bu-Il ;
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Jo, Gwang-Seop
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Gwon, Gi-Cheong
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조태훈
(광운대학교 전자물리학과)
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윤명수
(광운대학교 전자물리학과)
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손찬희
(광운대학교 전자물리학과)
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- 강정욱 (광운대학교 전자물리학과) ;
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김동진
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- 최장훈 ;
- 남창길 ;
- 전부일 (광운대학교 전자물리학과) ;
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조광섭
(광운대학교 전자물리학과)
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권기청
(광운대학교 전자물리학과)
- Published : 2011.02.09
Abstract
유도결합플라즈마 장비의 공정에서 안테나의 역할은 매우 중요하다. 유도결합플라즈마의 식각 공정에서도 충분한 식각과 균등한 식각 결과를 얻기 위해 안테나의 역할은 중요한 요인 중 하나이다. 안테나와 공정 웨이퍼간의 거리에 따라 발생하는 플라즈마 밀도나 전자 온도 등이 변화하고 그에 따른 식각정도나 균등성도 달라진다. 본 연구에서는 플라즈마 특성 변화를 관찰하기 위해 기존 유도결합플라즈마 식각 장비의 안테나와 웨이퍼간 거리와 내부 안테나를 웨이퍼와 가깝게 하였을 때의 플라즈마 밀도, 안테나의 전류와 식각률 등을 측정하였다.