Effect of plasma treatment to surface of the titanium oxide deposited by plasma enhanced atomic layer deposition

  • 권태석 (한양대학교 나노반도체공학과) ;
  • 강병우 (한양대학교 신소재공학과) ;
  • 김경택 (한양대학교 신소재공학과) ;
  • 문대용 (한양대학교 나노반도체공학과) ;
  • 김웅선 (한양대학교 신소재공학과) ;
  • 문연건 (한양대학교 신소재공학과) ;
  • 박종완 (한양대학교 신소재공학과)
  • Published : 2009.10.14

Abstract

자체 발광형 디스플레이는 잠재적인 장점에도 불구하고 수분에 대한 열화와 같은 기술적인 문제로 상업화하기 어려움이 있어 수분 투습 방지막이 필요하다. 이에 본 연구에서는 작은 결점 크기와 낮은 결점 밀도를 가지는 $TiO_2$ 보호막을 PEALD법으로 증착 하여 $N_2$$NH_3$ plasma 처리에 따른 표면 효과를 알아보았다.

Keywords