Effect of Surface Roughness on the Formation of Low Resistance Ni-Silicide from Atomic Layer Deposited Nickel Film

  • 방진배 (경북대학교 센서 및 디스플레이공학과) ;
  • 강희성 (경북대학교 전자전기컴퓨터학부) ;
  • 하종봉 (경북대학교 전자전기컴퓨터학부) ;
  • 양충모 (경북대학교 전자전기컴퓨터학부) ;
  • 이정희 (경북대학교 전자전기컴퓨터학부)
  • Published : 2009.08.19