한국신재생에너지학회:학술대회논문집
- 2009.06a
- /
- Pages.159-159
- /
- 2009
Characterization of ZnO:Al layer with post-annealing and HCl etching
후열처리에 따른 ZnO:Al 투명전도막 특성 변화 및 HCl 식각 특성 분석
- Kim, Han-Ung ;
-
Kim, Young-Jin
;
-
Cho, Jun-Sik
;
-
Park, Sang-Hyun
;
-
Yoon, Kyung-Hoon
;
-
Song, Jin-Soo
;
-
O, Byung-Sung
;
-
Lee, Jeong-Chul
- 김한웅 (한국에너지기술연구원 태양광사업단) ;
-
김영진
(한국에너지기술연구원 태양광사업단) ;
-
조준식
(한국에너지기술연구원 태양광사업단) ;
-
박상현
(한국에너지기술연구원 태양광사업단) ;
-
윤경훈
(한국에너지기술연구원 태양광사업단) ;
-
송진수
(한국에너지기술연구원 태양광사업단) ;
-
오병성
(충남대학교 물리학과) ;
-
이정철
(한국에너지기술연구원 태양광사업단)
- Published : 2009.06.25
Abstract
RF 스퍼터링법을 이용하여 유리기판위에 ZnO:Al 박막을 증착하고 다양한 조건 하에서 후 열처리를 실시하여 이에 따른 박막의 구조적, 전기적 및 광학적 특성과 HCl 습식 식각 후의 표면형상 변화를 조사하였다. ZnO:Al 투명전도막은 우수한 전기적, 광학적 특성, 수소 플라즈마 안정성 및 저 비용 등으로 실리콘 박막 태양전지 전면 전극용으로 많은 관심을 받고 있다. 기존의 비정질 실리콘 박막 태양전지용으로 많이 사용되고 있는 상용 Asahi-U형 (