Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference (한국정보통신학회:학술대회논문집)

The Korea Institute of Information and Commucation Engineering (한국정보통신학회)
권호 표지

Analysis of sub-20nm MOSFET Transconductance characteristic by Channel Lenght

채널 길이에 따른 20nm 이하 MOSFET의 전달컨덕턴스 특성 분석

  • Han, Jihyung (School of Electronic and Information Eng., Kunsan National University) ;
  • Jung, Hakkee (School of Electronic and Information Eng., Kunsan National University) ;
  • Lee, Jaehyung (School of Electronic and Information Eng., Kunsan National University) ;
  • Jeong, Dongsoo (School of Electronic and Information Eng., Kunsan National University) ;
  • Lee, Jongin (School of Electronic and Information Eng., Kunsan National University) ;
  • Kwon, Ohshin (School of Electronic and Information Eng., Kunsan National University)
  • 한지형 (군산대학교 전자정보공학부) ;
  • 정학기 (군산대학교 전자정보공학부) ;
  • 이재형 (군산대학교 전자정보공학부) ;
  • 정동수 (군산대학교 전자정보공학부) ;
  • 이종인 (군산대학교 전자정보공학부) ;
  • 권오신 (군산대학교 전자정보공학부)
  • Published : 2009.10.29
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Abstract

본 논문에서는 MicroTec을 이용한 채널 길이에 따른 20nm이하 MOSFET의 전달컨덕턴스의 특성을 분석하였다. 전달컨덕턴스는 게이트 전압의 변화에 의한 드레인 전류의 변화이다. MicroTec의 이동도 모델중 Lombardi, Constant, Yamaguchi 모델을 선택하여 이동도 모델에 따른 gm(전달컨덕턴스)를 비교하였다. 인가전압은 소스 0V, 기판 0V, 드레인 0.1V, 게이트는 -2.5V에서 4.5V까지 증가시켰다. 채널의 길이가 줄어들수록 gm(전달컨덕턴스)의 최대값과 드레인 전류가 증가함을 알 수 있었다.

Keywords