한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
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- Pages.65-65
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- 2009
$Cl_2$ /Ar 혼합가스를 이용한 $Ba_2Ti_9O_{20}$ 유전박막의 유도결합 플라즈마 식각
Etching characteristics of $Ba_2Ti_9O_{20}$ films in inductively coupled $Cl_2$ /Ar plasma
- Lee, Tae-Hoon (Korea Univ.) ;
- Kim, Man-Su (Korea Univ.) ;
- Jun, Hyo-Min (Korea Univ.) ;
- Kwon, Kwang-Ho (Korea Univ.)
- 발행 : 2009.04.03
초록
본 연구에서는 ICP 식각장치 및