한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집
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- Pages.5-6
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- 2009
플라즈마 이온주입 후 RTP 열처리 온도와 시간에 따른 접촉저항 특성
Characteristics of Contact resistivity on RTP annealing temperature and time after Plasma ion implant
- 발행 : 2009.06.18
초록
In this paper, plasma ion implant is performed with