저에너지 Fluorine-based 중성빔 incorporation 공정을 이용한 $Al_2O_3$ gate 절연막 특성향상에 관한 연구

• Park, Byeong-Jae ;
• Min, Tae-Hong ;
• Gang, Se-Gu ;
• Park, Jae-Beom ;
• Im, Ung-Seon ;
• Yeom, Geun-Yeong

• 박병재 (성균관대학교 신소재공학과) ;
• 민태홍 (성균관대학교 신소재공학과) ;
• 강세구 (성균나노과학기술원) ;
• 박재범 (성균나노과학기술원) ;
• 임웅선 (성균나노과학기술원) ;
• 염근영 (성균관대학교 신소재공학과)

• Published : 2008.08.20

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