Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

Properties of $SiO_xN_y$ thin films prepared on ion beam pretreated plastic substrates for flexible devices

유연성 소자 적용을 위한 전처리 조건에 따른 $SiO_xN_y$ 보호막 특성 평가

  • 정유정 (한국기계연구원 표면기술연구센터) ;
  • 김도근 (한국기계연구원 표면기술연구센터) ;
  • 김종국 (한국기계연구원 표면기술연구센터) ;
  • 이건환 (한국기계연구원 표면기술연구센터)
  • Published : 2007.04.05
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Abstract

본 연구에서는 Si 타겟과 반응성 마그네트론 스퍼터링법을 적용하여 $SiO_xN_y$ 박막을 PET 필름상에 증착하였다. PET 필름상에 밀착력 증진 및 기판 표면 거칠기 제어를 위해 이온빔을 이용한 플라즈마 전처리를 수행하였다. 플라즈마 전처리 조건과 질소 가스 유량비에 따른 $SiO_xN_y$ 박막의 광학적 특성과 수분의 투습성에 대한 영향을 관찰하였다. 광학적 투과율은 전처리 및 조성비에 관계없이 95% 이상의 높은 광투과율을 보여주었다. 수분에 대한 투습 특성은 플라즈마 전처리 조건에 따라 다소 향상됨을 확인하였고, 질소 유량비가 증가함에 따라 투습 특성이 향상되었다.

Keywords