반복측정이 난해한 환경을 고려한 라인간 계측동일성 검정

  • 김형선 (삼성전자(주)메모리사업부 품질보증실 양산 QA팀) ;
  • 조형석 (삼성전자(주)메모리사업부 품질보증실 제조센터 생산기술 1팀) ;
  • 이호영 (삼성전자(주)메모리사업부 품질보증실 양산 QA팀) ;
  • 동승훈 (삼성전자(주)메모리사업부 품질보증실 양산 QA팀) ;
  • 이상길 (삼성전자(주)메모리사업부 품질보증실 제조센터 생산기술 1팀)
  • Published : 2007.04.14

Abstract

반도체 산업에서 동일제품을 여러 라인에서 생산하는 것은 일반적이다. 모든 라인에서 생산된 제품의 품질수준의 동일 여부는 반도체 공정 계측데이터의 동일성 여부로 결정된다. 이러한 의사결정에 앞서 계측데이터를 생산하는 라인간 계측시스템의 동일성 검정은 필수적이다. 일반적인 두 집단의 동일성검정 방법은 동일시료를 두 집단에서 반복 측정하여 측정값의 차이를 비교하는 방법이다. 그러나, 반도체 계측특성은 동일시료를 반복 측정할 때, 물리적 영향 등에 의해 시료가 변화하여 반복측정이 난해한 특징을 가지고 있어 일반적인 반복측정 방식의 동일성 검정방법은 적합하지 않다. 본 연구에서는 반복측정이 난해한 반도체 계측 특성 하에서 가설검정을 이용한 라인간 계측 동일성 검정방법을 제시하고 실제 반도체 공정에 적용한 사례를 소개하고자 한다.

Keywords