Si(100)에서의 플라즈마 이온주입 방법으로 도핑된 Boron의 거동연구

  • 서정혜 (한밭대학교 정보통신공학과) ;
  • 이우정 (한밭대학교 정보통신공학과) ;
  • 정광수 (한밭대학교 재료공학과) ;
  • 이연승 (한밭대학교 정보통신공학과) ;
  • 나사균 (한밭대학교 재료공학과) ;
  • 이원준 (세종대학교 신소재공학과)
  • Published : 2007.08.15