$Cl_2$ based Silicon Etching for Fabrication of AWG Master for embossing

엠보싱용 AWG 마스터 제작을 위한 $Cl_2$ 가스 기반의 실리콘 식각

  • Kim, Bo-Sun (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
  • Seong, Jun-Ho (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
  • Lee, Min-U (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
  • Choe, Cheol-Hyeon (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
  • Lee, Seung-Geol (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
  • Park, Se-Geun (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
  • Lee, Il-Hang (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
  • O, Beom-Hwan (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA))
  • 김보순 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
  • 성준호 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
  • 이민우 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
  • 최철현 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
  • 이승걸 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
  • 박세근 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
  • 이일항 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
  • 오범환 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부)
  • Published : 2007.07.01