Shallow Junction을 위한 Plasma Source Ion Implantation(PSII) 공정 연구

• 이상욱 ((주)에이디피엔지니어링) ;
• 김정희 ((주)에이디피엔지니어링) ;
• 김훈 ((주)에이디피엔지니어링) ;
• 정진열 ((주)에이디피엔지니어링) ;
• 지종열 ((주)에이디피엔지니어링) ;
• 최준영 ((주)에이디피엔지니어링) ;
• 이영종 ((주)에이디피엔지니어링) ;
• 한승희 (한국과학기술연구원) ;
• 김기만 (세종대학교) ;
• 이원준 (세종대학교) ;
• 나사균 (한밭대학교)

• Lee, Sang-Uk ;
• Kim, Jeong-Hui ;
• Kim, Hun ;
• Jeong, Jin-Yeol ;
• Ji, Jong-Yeol ;
• Choe, Jun-Yeong ;
• Lee, Yeong-Jong ;
• Han, Seung-Hui ;
• Kim, Gi-Man ;
• Lee, Won-Jun ;
• Na, Sa-Gyun

• 발행 : 2007.02.06

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