Large area imprint process using isostatic pressure

  • 이상문 (삼성전기 중앙연구소 eMD Lab) ;
  • 문진석 (삼성전기 중앙연구소 eMD Lab) ;
  • 곽정복 (삼성전기 중앙연구소 eMD Lab) ;
  • 나승현 (삼성전기 중앙연구소 eMD Lab)
  • Published : 2007.11.01

Abstract

Ni stamper위에 100nm의 Si 코팅후 자기조립 단분자막(SAM)을 액상 코팅방식으로 형성 하였고, 내구성 및 열적 안정성을 검증하기 위해 반복적인 이형 및 압력인가 test가 실시하였다. 20회 이상의 이형실험을 통해 열적, 기계적 안정성을 확인하고, 접촉각 측정을 통해 이형특성의 안정성도 고찰하였다. 이를 Imprint공법을 적용 fine pattern의 구조물을 얻을 수 있었다. SAM코팅은 TRICHLOROSILANE을 사용하였으며 Hexane과 1000:1의 비율로 섞어서 stirrer에서 mixing하는 방식을 사용했으며, UV-ozone처리를 통한 이형성 제거 효과도 관찰하였다.

Keywords